商品の説明 デザインのクオリティーを、髪そのものから変えていく 「シェルパ」では、単にケミカルメニューによるダメージのケアをするだけでなく、 髪そのものを均一でしなやかな状態へと導きます。 ヘアデザインの土台となる髪のコンディションを整えることで、 理想のデザインづくりをサポートします。 均一なベースづくりのために 対象毛：ライトダメージ以上の髪に 前処理：薬剤によるダメージ保護、カラーの染まり、カール、ストレートのかかりを均一に 後処理：トリートメントの浸透をサポート 【製品特徴】 ■CMCリノアダプター 脂質相と水相が交互に重なるCMCの構造に着目。 CMCの各相にアプローチする成分を組み合わせて配合し、薬剤の浸透・反応ムラの原因になるCMC中の微細なダメージを補修。 各ケミカル施術を安定した仕上がりへ導きます。 構成成分(補修・保湿) ナノ化CMC脂質※1：脂質相ケア ナノアミノMIX※2：水相ケア ナノ化セラミド※3：脂質相水相間ケア ※1クオタニウム-33、コレステロール ※2アスパラギン酸、グリシン、アラニン、セリン、バリン ※3セラミド2、セラミド3、セラミド6II ■SSリノコネクター(補修・保護) 毛髪内タンパク質を支えるSS結合に着目。 SS結合を形成する成分を組み合わせて配合し、SS結合の損傷により発生するコルテックス中のダメージホールをケア。 ダメージに負けない柔軟でしなやかな髪へと導きます。 構成成分(補修・保護) 活性ケラチン※4：SS結合が損傷した髪を補修 アルギニン：毛髪強度※5を安定化 ※4加水分解ケラチン(羊毛)：毛髪内部に浸透・定着しやすいケラチン ※5ハリコシのある髪のこと ■アミノリテクター それぞれ性質の異なるアミノ酸を各アイテムに分散配合。 施術のステップごとに発生するケミカルダメージを、発生時点で未然に素早くケアし、健康的な印象の髪に導きます。 配合成分 ポリアスパラギン酸Na(保湿)：乾燥によるケミカルダメージの進行を濃厚保湿ケア(ベースエイドミストに配合) トリプトファン(保護) 活性酸素などを含む薬剤のダメージから髪を保護(ボンドメモリアルリキッドに配合) グリシンベタイン(保護) 熱・薬剤による毛髪構造への営業から髪の芯を保護(コアプロテクトミルクに配合) ココイルグルタミン酸TEA(洗浄) アルカリ成分などを含む残留物に吸着し、効率的に洗浄・除去(クリアアップフォームに配合) アミノプロピルジメチコン(補修) 施術後の開いたキューティクルを補修し、毛髪内部物質や染料の保持をサポート(クローズキープマスクに配合)